產品列表PRODUCTS LIST
在當今連接日(ri)益緊密的世界中，對超出常規電子產(chan)品的新型微(wei)米(mi)(mi)和(he)納米(mi)(mi)級設備(bei)的需求不斷增(zeng)長。這些器件(jian)通過(guo)IC制(zhi)造工具制(zhi)造時(shi)(shi)往往需采用(yong)非(fei)標準工藝， 而(er)依賴(lai)于微(wei)米(mi)(mi)和(he)納米(mi)(mi)制(zhi)造技術設備(bei)的生產(chan)非(fei)常昂貴(gui)且耗時(shi)(shi)。
在(zai)過去(qu)的幾年(nian)中(zhong)，Inchfab一直致力于(yu)開發超低(di)成本微細加工和(he)納米加工設備(bei)的完(wan)整平臺，更經濟地生(sheng)產電子(zi)、機械(xie)、化學和(he)生(sheng)物設備(bei)。Inchfab將先進的處理能力與大(da)尺寸(cun)的基板分離，Inchfab已經證明，使(shi)用較小的基板也可以提高性能，并優(you)于(yu)大(da)尺寸(cun)基板。
遇到的問題
INCHFBA
在(zai)(zai)基板制造過程中，所(suo)需的(de)薄(bo)膜(mo)材料需用化學(xue)氣(qi)相(xiang)淀積(ji)來制備。化學(xue)氣(qi)相(xiang)淀積(ji)是把(ba)各成(cheng)分(fen)元(yuan)素(su)以(yi)及摻雜劑都(dou)以(yi)氣(qi)體(ti)形式導入反(fan)應爐(lu)，在(zai)(zai)晶圓表面(mian)發生化學(xue)反(fan)應，從而生成(cheng)所(suo)需的(de)固態薄(bo)膜(mo)并淀積(ji)在(zai)(zai)其表面(mian)。
在(zai)化學氣相(xiang)沉積中，真空(kong)是(shi)必(bi)須的(de)，因為在(zai)有大氣氣體(ti)存在(zai)的(de)情況下，化學反(fan)應是(shi)不起(qi)作用的(de)。
研發意味著(zhu)測(ce)試，允許障礙和(he)(he)反應性(xing)氣(qi)體的(de)新配方，可能多次改變流(liu)量(liang)比和(he)(he)氣(qi)體，且所有(you)的(de)必須(xu)同時保持準(zhun)確，氣(qi)體流(liu)量(liang)控(kong)制的(de)準(zhun)確性(xing)不言而(er)喻。
解決(jue)方案
ALICAT
Alicat為(wei)幫助Inchfab克服這(zhe)一挑戰提(ti)供了的(de)準確性、響應能力(li)(li)和(he)(he)控制(zhi)(zhi)氣體(ti)流(liu)(liu)量需(xu)求。Alicat半導體(ti)壓(ya)力(li)(li)控制(zhi)(zhi)器和(he)(he)MFC系(xi)列(lie)質量流(liu)(liu)量控制(zhi)(zhi)器為(wei)Inchfab提(ti)供了一個性能、可靠性和(he)(he)價(jia)格之間無需(xu)折衷的(de)解決方案，這(zhe)使其成(cheng)為(wei)Inchfab系(xi)統的(de)選擇。
Alicat半導體MCE系列真空氣(qi)(qi)體質(zhi)(zhi)量(liang)(liang)(liang)流(liu)量(liang)(liang)(liang)控制器采用了層流(liu)差壓(ya)(DP)技術，可(ke)同時測(ce)量(liang)(liang)(liang)98種(zhong)氣(qi)(qi)體的質(zhi)(zhi)量(liang)(liang)(liang)流(liu)量(liang)(liang)(liang)、體積流(liu)量(liang)(liang)(liang)、壓(ya)力(li)和溫(wen)度(du)，并進行全溫(wen)度(du)和壓(ya)力(li)補償。MCE系列控制器低至(zhi)0-0.5sccm、高(gao)至(zhi)0-20 slpm、控制響(xiang)應時間為(wei)50-100毫秒。Alicat質(zhi)(zhi)量(liang)(liang)(liang)流(liu)量(liang)(liang)(liang)控制器以(yi)驚人的準確度(du)和響(xiang)應時間大(da)大(da)提高(gao)實驗質(zhi)(zhi)量(liang)(liang)(liang)。
Inchfab 化學氣相淀積系統中使用Alicat控制器的流程圖
Alicat很高興(xing)能成為這個重要的(de)挑(tiao)戰的(de)一部分，Alicat的(de)質(zhi)量(liang)流量(liang)控制器適應性(xing)使得化(hua)學氣相沉(chen)積越來越好(hao)，助推許(xu)多(duo)未(wei)實現(xian)的(de)技術早(zao)日實現(xian)。
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